[其他]鍍鋁薄膜的常溫快速陽極氧化技術無效
| 申請號： | 85109238 | 申請日： | 1985-12-16 |
| 公開（公告）號： | CN85109238A | 公開（公告）日： | 1986-09-03 |
| 發明（設計）人： | 方敬忠;羅贊繼;張海梅;凌凱達 | 申請（專利權）人： | 青海省太陽能研究所 |
| 主分類號： | C25D11/08 | 分類號： | C25D11/08;C25D11/18;C25D11/20;C23C28/00;C03C17/09;C23C17/27;C04B41/88 |
| 代理公司： | 青海省專利服務中心 | 代理人： | 劉開鼎 |
| 地址： | 青海省西寧市*** | 國省代碼： | 青海;63 |
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| 摘要： | 本發明提供一種鍍鋁膜層的陽極氧化技術，它可為鍍鋁鏡面提供一種有效的保護層。本技術的實質是對非金屬(尤其適用于玻璃、陶瓷)基底材料鍍鋁薄膜采用硫酸及Na2SiO3(水玻璃)等其它添加組分為處理溶液，在常溫下通以一定電流、電壓進行快速陽極氧化，然后用本發明提供的三種方法之一進行封閉處理，從而生成一種耐摩、耐蝕、耐候，表面可見光反射高(85％左右)的鏡面絕緣氧化膜層。本技術工藝簡單，成本低廉，生產效率高。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 鍍鋁 薄膜 常溫 快速 陽極 氧化 技術 | ||
【主權項】：
1、一種在非金屬基底材料上鍍鋁薄膜鏡面的常溫快速陽極氧化技術，其特征在于氧化處理在下列條件下進行：電解液成分：H2SO420～100ml/1(水)Na2SiO3(水玻璃)20～100g/l(水)C4H6O63～20g/l(水)(HO)C6H3(COOH)SO3H·2H2O3～20g/l(水)直流電電流密度1.5～3.5A/dm2，電壓15～30V，氧化處理時間2～6分鐘。
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