[其他]制備沉積膜的方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 86108685 | 申請(qǐng)日： | 1986-12-25 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN86108685A | 公開（公告）日： | 1987-07-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 齊藤惠志;廣岡政昭;半那純一;清水勇 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 佳能株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | C23C16/00 | 分類號(hào)： | C23C16/00;C23C16/24;C23C16/44 |
| 代理公司： | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利代理部 | 代理人： | 劉建國(guó) |
| 地址： | 日本*** | 國(guó)省代碼： | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說(shuō)明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 通過(guò)把形成沉積膜的氣態(tài)原料和對(duì)所說(shuō)的原料具有氧化作用性質(zhì)的氣態(tài)鹵素氧化劑分別獨(dú)立地送入反應(yīng)空間，由化學(xué)反應(yīng)形成沉積膜的制備沉積膜的方法，包括預(yù)先把用于形成價(jià)電子控制劑的氣態(tài)物質(zhì)(D)在一個(gè)激活空間里形成激活產(chǎn)物，并且將所說(shuō)的激活產(chǎn)物送入反應(yīng)空間，以便形成摻雜的沉積膜。 | ||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 制備 沉積 方法 | ||
【主權(quán)項(xiàng)】：
1、種通過(guò)把形成沉積膜的氣態(tài)原料和對(duì)所說(shuō)的原料具有氧化作用性質(zhì)的氣態(tài)鹵素氧化劑分別獨(dú)立地送入反應(yīng)空間，由化學(xué)反應(yīng)形成沉積膜的制備沉積膜的方法，包括預(yù)先把用于形成價(jià)電子控制劑的氣態(tài)物質(zhì)(D)在一個(gè)激活空間里激活，形成激活產(chǎn)物，並且將所說(shuō)的激活產(chǎn)物送入反應(yīng)空間，以便形成摻雜的沉積膜。
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C23 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆，例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上，例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆，例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上，例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的
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